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N
Nail Heading
다층기판의 내층회로에 있어서 홀드릴에 의하여 회로가 퍼진 상태.
Nano Line
빛의 간섭효과를 이용하는 것으로 입사광의 파장변화에 따른 반사광의 Intensity를 측정해서 박막의 두께 및 반사도를 측정하는 장비.
Nano Spec
Wafer위에 입혀진 물질의 두께를 측정하는 장비.
National Reference Standard
원기에 의하여 교정되는 표준기기로서 2차급의 표준기기를 교정하는 데 사용되는 것.
Navigation TFT-LCD
LCD의 일종으로 항법 장치에 사용되는 디스플레이로 경량, 박형이며 인명에 관계된 것이기 때문에 고 신뢰성을 요구된다.
N-Channel
P형 기판에 확산영역을 형성한 절연게이트형 FET에 있어서 소오드, 드레인간을 흐르는 전류의 통로인 채널이 전자에 의해서 형 성되는 것을 말한다.
Neat Phase
일반적으로 물을 그다지 함유하지 않는 표면 활성제, 비누, 복합지질등의 계가 두개의 분자층사이에 균등하게 물을 함유한 lame lla구조의 상태를 말함.
Necking
Interconnect line이 가늘어지는 현상.
Negative LCD
Normally black라고도 하며 검은 바탕에 흰 문자가 나타난다.
Negative Resistance
전압을 증가시킨 경우 전류가 감소하는 특성을 말한다.
Nematic IC
부자의 장축을 대개 일정방향으로 배향하고 분자의 중심이 랜덤하게 분포되어 있는 역동성을 가진 액정.
Net Die
Wafer 내에서 실제로 만들어지는 Total Die수.
Netlist
회로설계가 끝난 후 Simulation혹은 Layout을 하기 위해 그려진 회로도에서 사용된 소자 종류, 크기, 소자와 소자의 연결상태, 글고 Signal Name이 추출이 수록된 File.
Neural Processing Chip
뇌의 신경회로를 모방한 Neuron과 Neuron간을 연결하는 기능등을 탑재한 IC.
N-CH Filed Implant
Filed Region의 VT를 증가시켜 Cell과 Cell간의 절연성을 높이기 위하여 Filed Oxide가 성장할 부위와 같은 종류의 ICON을 주입 한다.
N MOS(N-channel MOS)
기판은 P형으로 구성되고 Source와 Drain부가 N형으로 작동되는 MOS device.
Nodule
작은 돌출부,평탄해야 할 Si표면에서 Si이 석출되어 위로 올라온 것.
Noise Margin(잡음 여유)
논리회로에서는 전압의 고저에 따라서 1과 0을 정하고 있는데 잡음이 발생하면 전압 level이 변동하여 "1"과 "0 "이 바뀌고 말기 때문에 이것을 방지하기 위하여 논리전압이 여유를 갖게 할 필요가 있는 데 이를 말한다.
Non-Volatile(불 휘발성)
전원이 끊어도 지워지지 않는 Memory.
Notch/Void
일반적으로 재료(기판표면)에 움푹 패인 곳이나 구멍이 뚤린 곳을 말하며 이곳에는 역학적으로 을력이 집중되는 곳이다. 반도체 분야에서는 금속막 및 보호막의 유기적인 관계에 의해 금속배선에서 일어나는 현상으로 금속배선 측벽에 쐐기형상으로 파이는 것을 Notch라 하며, 이것이 성장하여 Hole모양을 혈성하는 것을 Void라 한다.
Notching
Photo공정에서 난방사에 의해 line에 톱니모양으로 파지는 현상.
Notebook TFT-LCD
중량 3.5Kg이하의 PC에 장착되는 디스플레이 판넬로 10인치 이하의 사이즈의 화소수는 Laptop과 같으나 Pitch사이즈는 0.21, 0. 33mm정도이다.
NPN TR
N ,P, N 영역을 각각 에미터, 베이스, 콜렉터로 접합형 TR이다.
N-Type Silicon(Negative Type Silicon)
Major Carrier가 Electron이 경우를 말한다.
NVD(Non Visual Defect)
Deprocess에 의해 불량분석을 하는 경우 Fail은 되었으나 Defect를 찾을 수 없는 경우 Non Visual Defect라 한다. |
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